EUV微影

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極紫外光微影使用約 13.5 奈米波長的極紫外光，透過光罩與複雜光學系統把電路圖形轉移到晶圓上，是先進半導體製造的重要微影技術。它可減少部分製程所需的多重曝光，但仍須與光阻、光罩、量測、蝕刻與製程控制共同運作。